Osiris va réduire ses émissions de soufre

Le GIE Osiris a pour projet de purifier ses gaz rejetés.

 

 

 

Sur la plateforme chimique de Roussillon, le GIE Osiris prépare de nouveaux investissements afin de réduire ses rejets atmosphériques. Après s’être équipé il y a deux ans d’une unité de traitement pour diviser par trois les oxydes d’azote (Nox), il est question aujourd’hui de s’attaquer à l’oxyde de soufre. Le projet passera notamment par l’édification de quelque 500 m² de bâtiments et l’installation d’un process de purification des gaz par injection de chaux. L’objectif est d’être opérationnel en 2016. Au final, le GIE aura investi entre 8 et 10 millions d'euros pour réduire ses émissions dans l’atmosphère.

Une zone en plein développement

La plateforme chimique réunit aujourd’hui une quinzaine d’entreprises, soit environ 1 450 salariés, sur un espace de 150 ha. Après l’arrivée d’Hexcel qui devrait démarrer son activité mi-2017, il restera entre 20 et 30 ha. L’objectif du GIE est d’attirer des start-up. Dans ce cadre, il a signé en décembre 2014 une convention de partenariat avec Axelera, le pôle de compétitivité chimie-environnement, pour favoriser le développement de ces “jeunes pousses”. Notons que la dernière entreprise à s’y être implantée, en février dernier, est Ecoat (lire Bref du 3 septembre 2014), spécialisée dans la fabrication de liants pour l’élaboration de peintures à l’eau.

Pascal Burgues

 

Bref Rhône-Alpes Auvergne n° 2224 du 25/11/2015

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